Design for Manufacturability with Advanced Lithography, Softcover reprint of the original 1st ed. 2016
Auteurs : Yu Bei, Pan David Z.
Introduction.- Layout Decomposition for Triple Patterning.- Layout Decomposition for Other Patterning Techniques.- Standard Cell Compliance and Placement Co-Optimization.- Design for Manufacturability with E-Beam Lithography.- Conclusions and Future Works.-
Date de parution : 08-2016
Ouvrage de 164 p.
15.5x23.5 cm
Date de parution : 11-2015
Ouvrage de 164 p.
15.5x23.5 cm
Disponible chez l'éditeur (délai d'approvisionnement : 15 jours).
Prix indicatif 52,74 €
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