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Thin film deposition and applications

Langue : Anglais

Auteur :

Couverture de l’ouvrage Thin film deposition and applications
Thin Film Technology. Gas Kinetics. Vacuum Technology. Evaporation. Deposition. Epitaxy. Chemical Vapor Deposition. High-Energy Techniques. Plasma Processes. Film Characterization.

Date de parution :

Ouvrage de 616 p.

22.9x15.5 cm

Sous réserve de disponibilité chez l'éditeur.

Prix indicatif 67,11 €

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